Мой сайт Воскресенье, 24.11.2024, 00:11
Приветствую Вас Гость | RSS
Главная | | Регистрация | Вход
» Меню сайта

» Категории раздела
Новости науки и техники [578]
Science and Technology [11]
Новости наномира [3]
Сплавы [4]
Трибология [0]
Водород [4]

» Статистика

Онлайн всего: 1
Гостей: 1
Пользователей: 0

» Форма входа

Главная » 2011 » Ноябрь » 4 » Показан простой способ формирования запрещённой зоны в трёхслойном графене
07:14
Показан простой способ формирования запрещённой зоны в трёхслойном графене

Показан простой способ формирования запрещённой зоны в трёхслойном графене

Ученые из США и Италии доказали, что при воздействии внешнего электрического поля, приложенного перпендикулярно образцу трехслойного графена, в нем может образовываться достаточно большая запрещенная зона.

Запрещенная зона в полупроводнике – это область энергии, которая отделяет валентную зону, заполненную электронами, от свободной зоны проводимости. В этом зазоре отсутствуют разрешенные состояния для электронов, она считается одной из основных характеристик полупроводника и определяет возможную область его применения. В обычном графене запрещенная зона равна нулю, что делает его полуметаллом.

1320222331_11.jpg Рис. 1. Схема созданных графеновых устройств. PEO — полиэтиленоксид.

На сегодняшний день не существует простых и надежных методик формирования ненулевых запрещенных зон, отсутствуют способы управления ее ширины, что тормозит распространение графена. Ученые уже пробовали экспериментировать с многослойными образцами графена, чтобы попытаться расширить запрещенную зону. Некоторого успеха удалось добиться в опытах с двухслойным графеном, но эксперименты с графеном из трех слоев результатов не давали.

В новых исследованиях физики решили изготовить на основе трехслойного графена, который расположили на подложке из SiO2/Si, небольшие устройства с верхним затвором. При этом в способах укладки слоев графена были важные различия: в некоторых устройствах трехслойные структуры имели типичную для них зеркальную симметрию, а в других — нет.

1320222388_22.jpg Рис. 2. Кристаллическая структура трёхслойного
графена с «симметричной» (слева) и
«несимметричной» укладкой слоёв.

Как выяснили ученые, наблюдая за изменяющейся фотопроводимостью, в тех устройствах, в которых сохранялась симметрия, запрещённая зона действительно не обнаруживается, и её ширина при напряжении затвора в 0,9 В совершенно точно не превышает 30 мэВ. А трехслойная структура без зеркальной симметрии проявила совершенно другие свойства – когда напряжение поднимали до 1,2 В, ширина запрещенной зоны приближалась к ~120 мэВ.

Полные результаты исследования, свидетельствующие о том, что порядок укладки слоёв графена влияет на зонную структуру материала, будут опубликованы в одном из ближайших номеров журнала Nature Physics.


Источник(и):

1. venture-news.ru

http://www.nanonewsnet.ru/news/2011/pokazan-prostoi-sposob-formirovaniya-zapreshchennoi-zony-v-trekhsloinom-grafene
Категория: Новости науки и техники | Просмотров: 621 | Добавил: Professor | Рейтинг: 0.0/0
Всего комментариев: 2
2 Bgfoqg  
order generic lipitor 40mg <a href="https://lipiws.top/">atorvastatin 10mg canada</a> brand atorvastatin 80mg

1 Qwqfen  
order atorvastatin 40mg generic <a href="https://lipiws.top/">buy atorvastatin 20mg sale</a> atorvastatin 10mg us

Имя *:
Email *:
Код *:
» Поиск

» Календарь

» Архив записей

» Друзья сайта
  • Официальный блог
  • Сообщество uCoz
  • FAQ по системе
  • Инструкции для uCoz


  • Copyright MyCorp © 2024
    Сделать бесплатный сайт с uCoz